Niedertemperaturplasmen werden in der in der Halbleitertechnik, der Oberflächentechnik sowie der Medizintechnik eingesetzt. Gerade in der Halbleitertechnik sind Präzision und Reproduzierbarkeit der Herstellungsverfahren aufgrund der immer kleiner werdenden Dimensionen der Bauelemente eine wachsende Herausforderung. Eine neue Technololgie aus der Ruhr-Universität Bochum bestimmt prozessrelevante Parameter mittels PROES (phase resolved optical emission spectro-scopy).

Die Lichtemission des Plasmas wird mit einem Photomultiplier (PMT) gemessen. Die Übertragung des Lichtes zum PMT erfolgt über einen Lichtleiter.  Das Ergebnis einer solchen Messung ist ein Graph, der die Emissionsintensität des Plasma bei bestimmten Wellenlängen mit einer Zeitauflösung von wenigen Nanosekunden zeigt. Dadurch  lässt sich feststellen, wann und wo sich Elektronen mit bestimmten Energien im Plasma, woraus sich Informationen über prozessrelevante Parameter, z.B. Ionen- und Radikalflüsse ziehen lassen.

Die Vorteile dieser Technologie: Sie ist minimal invasiv, kann in übliche optische Emissionsspektroskopiesysteme (OES), welche nur geringe oder keine Zeitauflösung besitzen, integriert werden, ist günstig und wenig anfällig gegenüber Beschichtungen der Optik. Die Analyse der zeitaufgelösten Emission des Plasmas liefert tiefere Einblicke in den Prozess als gewöhnliche OES, wodurch sich Plasmaprozesse gezielt entwerfen, optimieren und regeln lassen.